二次イオン質量分析装置 PHI ADEPT-1010
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四重極型質量分析器を搭載した二次イオン質量分析装置です。高透過率の二次イオン光学系の採用により、優れたダイナミックレンジならびに検出下限とともに、様々なイオン入射角度における高感度測定が可能です。
また、高輝度低エネルギーフローティングイオン銃の採用により、極薄膜の深さ方向分析を高感度・高速で実現します。

アルバック・ファイ株式会社
- 〒253-8522 茅ヶ崎市萩園2500
- TEL 0467-85-6522 FAX 0467-85-9406
- URL https://www.ulvac-phi.com
営業品目
各種表面分析装置[走査型X線光電子分光分析(XPS)、 硬X線光電子分光分析(HAXPES)、二次イオン質量分析(SIMS)、 走査型オージェ電子分光分析(AES)]、各種オプション ほか