ZEM-3シリーズ は、ゼーベック係数と電気抵抗（比抵抗）を同時に測定できるJISに準拠した装置です。専用アタッチメントで薄膜の測定も可能です。
　 JIS R 1650-1、JIS R 1650-2

【特　長】
・温度制御性に優れた赤外線ゴールドイメージ加熱炉と温度差制御用マイクロヒ一夕を採用。
・測定はコンピュータ制御され指定温度で各温度差ごとに測定、暗起電力の除去など自動測定が可能。
・試料とリード線の接触状況の良否確認として∨－Ⅰプロットを標準装備。

【仕　様】
温度範囲　　　-100℃～200℃（LW型）
　　　　　　　50℃～800℃（M8型）
　　　　　　　50℃～1000℃（M10型）
試料寸法　　　角またはφ2㎜～4㎜×長さ5㎜～22㎜
測定雰囲気　　低圧Heガス中（大気中）

【用　途】
半導体系、セラミックス系、金属系などの幅広い材料の熱電特性評価