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超低濃度シリカ分離分析装置 STAA-3

¥18,000,000

 ケイ素は電池や半導体素材等において、0.1mg/Kg以下の低濃度領域での定量下限が求められることがある。しかしICP発光は石英製プラズマトーチからのケイ素の汚染があり、ICP-MSは質量干渉があるため、0.1mg/Kg以下のオーダーを正確に測定することは不可能であった。また、鋼中やその他物質に一定量以上含まれるケイ素は重量法等で行うことができるが、煩雑な分析手法と分析精度について問題があった。  そこで、サンプルに含まれるケイ素を気体として分離し、吸収液に捕集してモリブデンブルーで測定する方法を、連続流れ分析法(CFA法)にて開発した。  溶液化させた半導体部材や電池材料等をサンプラーに設置、試薬と混合させてケイ素を気化、分離、ケイ素のみをバッファに吸収させて測定を行う。  様々なマトリクスより分離された超低濃度のケイ素測定が可能である。

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営業品目

オートアナライザーシリーズ・酸分解前処理装置DEENA・近赤外分析装置・
ディスクリートAQ400