ICP-MSやICP-OESの試料導入系として用いられ、各種ガス中に
含まれる金属微粒子を直接分析することができるシステムです。

各種ガスはGEDによりArガスに置換されますが、金属微粒子は置換
されずにArガス中の微粒子として、GEDからプラズマに導入され分析
されます。
ガスを直接ICPに導入することにより、前処理を用いる従来の方法に
比べて、約1,000倍高感度に金属成分の分析が可能です。

<GEDを用いた分析例>
環境：大気中の粒子状Hg、およびガス状Hgのリアルタイム
　　　　オンライン分析
地質：大気環境下でのレーザーアブレーションを用いたサンプリング分析
半導体：一般ガス（N₂, O₂, CO₂等）および特殊ガス
　　　　　（例：NH₃, HCl, NF₃, CH₃F等）中の極微量金属の直接分析
　　　　　クリーンルームの環境測定
自動車：排気ガス中およびブレーキパッドからの発塵等の分析
たばこ：燃焼煙中微量金属の直接分析