H-GENIEは、水から最大圧力100bar(14.5-1450PSI)、最大流量1NL/min、純度4NのH₂を生成するための特許のプレッシャーセル技術を利用した小型の水素発生装置です。
このシステムは、水素ボンベの代わりに、より安全かつシンプルに実験室で使用することができるように設計されています。

【技術仕様】
■水素生成率：0.1 -1 NL/min
■出力時の圧カ：1-100 bar
■純度：≧ 99.99% (4.0)
■水質の要件：導電率1μS/cmi以下の脱イオン水を推奨
■水の消費率：く 200 mL /hr
■貯水量・内部 : 3L
■推環環境 ：ドラフトチャンバー
■電源：主電源:100Vから240VのAC, 47-63Hz
■消費電力：最大 1500 VA
■サイズ (H × W x D)：345 mm x 365 mm × 460 mm
■重量：38 kg
■出力の仕様：Swagelok 外径: 1/8"
■操作時、保管時、移動時の環境 ：10–35 °C; < 80% RH

H-Genieの紹介動画は、こちらをご覧ください。

【ThalesNano Energy社について】 ThalesNano Energy社はフロ－式ラボ用水素添加装置H-Cubeを2005年にリリースし世界中で好評を博したThales Nano社の関連会社です。 Dr. Ferenc Darvas, Richard Jonesらが創立者となり、2018年水素シリンダーに置き換わる高圧水素発生装置H-Genieをリリースしました。 この製品は装置内に貯蔵された水を電気分解して高純度(99.99%)・高圧(1-100Bar)の水素ガスを製造するので安全性に優れコンパクトで場所を取りません。水素ガスシリンダーを設置できない建屋・実験室などに最適です。