大型試料の研究および半導体評価に対応する、原子間力顕微鏡（AFM）です。最大200mmウエハに対応するNX20と、最大300mmウエハに対応するNX20 300mmをラインアップし、研究開発からプロセス評価まで幅広い用途に対応します。 低ノイズフロアと高い機械的安定性により、ナノスケールでの高精度かつ高い再現性の測定を実現します。Park Systems独自の直交型スキャンシステムおよびTrue Non-Contact™モードを搭載し、横方向のモーションアーチファクトを抑制するとともに、試料および探針へのダメージを低減し、高解像度かつ信頼性の高いイメージングを可能にします。 XYおよびZの完全独立制御機構に加え、クローズドループXYスキャナ（100µm × 100µm）およびZスキャナ（15µm）を備え、安定した計測性能を提供します。 材料科学、半導体、ポリマー、バイオ分野など幅広い分野において、ナノスケールの形状評価および特性解析に対応し、高度なナノスケールメトロロジーを支える信頼性の高いプラットフォームです。また、NX20 300mmは、研究用途からインライン生産環境への展開を見据えた評価装置としても有効です。

・XY、Z完全独立機構
・クローズドループ XY スキャナ：100 µm × 100 µm
・Zスキャナ：15µm