Park NX-Interferomは、半導体デバイスの研究開発/生産現場における計測、品質保証、前工程のプロセスコントロール、後工程の高度なパッケージ管理などのための白色光干渉計を内蔵した世界初のAFMシステムです。サブナノメートルの分解能を持ち、超高精度でナノスケールの領域までズームインでき、且つ広範囲でのハイスループット計測が可能です。

・半導体計測に最適な技術を一つに融合したことで同一ポジションをWLI及びAFMで測定可能
・XY、Z完全分離型スキャナ
・WLIモード/PSIモード搭載
・200/300㎜ウエハ対応