高周波誘導加熱を利用した蛍光X線分析用ガラスビード作成とICP分析や原子吸光分析のアルカリ融解処理を行う無機試料前処理装置です。
電気炉とは違い高周波誘導加熱方式でるつぼ自体が発熱するので、短時間で効率よく加熱処理ができます。
また、るつぼの発熱温度をうまくコントロールすることで軽元素の飛散を抑えて難溶解物質を確実に溶融させることができます。

【機種】
　卓上タイプ AT-5000
　連続処理タイプ TK-4500 ＊オートサンプラ機能搭載

【主な機能】
　・加熱方式 ： 高周波誘導加熱
　・使用可能るつぼ ： 白金、ジルコニウム、ニッケル
　　＊特殊アダプタを利用するとアルミナるつぼも使用可
　・加熱温度 ： Max. 1300℃
　・弊社オリジナルのるつぼ揺動回転機能でるつぼ内の試料と融剤を均一に撹拌

【仕様】
　・高周波出力 ： 2kW
　・発振周波数 ： 75kHz±8kHz
　・出力制御 ： サイリスタ位相制御（定電流制御）
　・電源 ： 単相 AC200V、4kVA、NFB 30A、要アース
　・冷却水 ： 流量2L/min.以上、水圧0.1～0.3MPa
　・連続処理タイプTK-4500には圧縮空気が必要 ： 0.2～0.3MPa
　・装置サイズ
　　　AT-5000 ： 幅600×奥行700×高さ350(mm)
　　　TK-4500 ： 幅950×奥行700×高さ1150(mm)
　・安全機構：高周波発振異常、炉体カバーインターロック、冷却水水圧低下
　　　　　　　圧縮空気空気圧低下