TFXRD シリーズは、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツールであり、薄膜の厚さ、結晶性、化合物材料の組成比、エピタキシャルウェーハの格子緩和などを測定します。
全ての薄膜XRDアプリケーションに適したXRDシステムで、200/300 mmウェーハまでのマッピングに対応したXY可動ステージを搭載しています。
当システムは、サンプルの損傷がなく状態が保たれることを保証し、追加の実験や分析を問題なく行うことができます。すべての研究開発ニーズに対して最も正確で信頼性の高い結果を提供します。
TFXRDシリーズの特徴
・全ての薄膜XRDアプリケーションに最適な選択可能な光学機器を備えた最高精度のゴニオメータと、マッピングのためのXY可動ステージ
・効率的な計測速度
・高分解能測定用の入射モノクロメータ
・大型ウェーハの完全なマッピング
・最大300 mmウェーハまで測定可能