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パラキシリレン成膜装置 P-LAVIDA

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小型でありながら、コンフォーマルなコーティングが可能な
パラキシリレンコーティング装置です。
プラズマ技術による新方式を採用し、処理時間が大幅に短縮
になりました。(約80分)
重合したパラキシリレンは、非常に安定した高い結晶性ポリマー
で、絶縁性・耐腐食性・耐溶剤性・耐水性・耐熱性に優れ、非常
に薄膜で均一な厚みのコーティングが特徴です。
目的に応じて、数十nm~数μm程度の膜厚が可能。
湿式のコーティングとは異なり、表面張力による膨らみ等が起き
ないため、均一な膜厚が形成できます。


<用途>
・絶縁性能・耐熱バリア: MEMS・センサー・回路基板等に
・絶縁性・防水・防塵: 精密機器・光学部品・回路部品等に
・耐薬剤性・生体適合性: ニードル・チューブ・シール等に


<仕様>
チャンバー     QZ Chamber
チャンバーサイズ  Φ170㎜(6.7インチ)
周波数/出力     20KHz~100KHz(可変)/MAX200W
ガス導入口     1(MFC) MAX2(オプション)
装置サイズ     W500×D500×H840mm
電   源       110~120VAC、50/60Hz
※仕様は予告なく変更になる場合がございます。

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営業品目

理化学機器の製造・輸入・販売