耐熱高性能フィルターを内蔵し、清浄度クラス100（温度安定時）を維持しながら熱処理が行えるため、半導体ウエハー、ガラス基板等の粉塵を嫌う処理に適しています。研究室などの限られたスペースに設置可能なコンパクトサイズのクリーンオーブンです。

・温度範囲：RT+60℃～200℃／350℃（Hタイプ）
・温度分布（※槽内の2/3）：±4℃（at 200℃）、±8℃（at 350℃）
・清浄度（※温度安定時）：クラス100（ISO：クラス5）　
・槽内寸法（mm）
型式CLO-2AH：250W×250H×250D
型式CLO-9CH：450W×450H×450D
型式CLO-21C(H)：660W×660H×500D