真空または不活性雰囲気下での高温熱処理に対応した一体型真空炉
【特徴】
◎水冷式二重円筒構造を採用し、炉壁温度は55℃以下に維持。
◎炉内はセラミックファイバー断熱材を採用、均一加熱を実現。
◎電極部は真空用シール構造で気密性・絶縁性を確保。
◎温度制御精度±1℃、最大16プログラム×30ステップ保存可能で、PID自動調整機能付き。
◎真空度に応じてロータリーポンプまたは拡散ポンプと併用。
【仕様】
・最高温度：1400/1700℃
・炉内容量：4.5～80L
・最高昇温速度：0～20℃/分）
・温度制御精度：±1℃
・到達真空度：冷間時10Paまたは6.7×10^-3Pa・サイズ：本体容量に応じて変わります。
・電源：三相AC200V　 50/61Hz
・中国製