製品情報

マイクロ波加熱装置 MW-BM1502-00

¥7,700,000~

マイクロ波による被加熱物への直接エネルギー投入による、省エネ化・短時間処理化が可能な装置です(加熱できない対象もあります)。

マイクロ波加熱に適した材料
・誘電体(セラミックス、ゴム、プラスチック)
・半導体(カーボン、シリコン、炭化ケイ素)
・磁性体(フェライト、マグネタイト)
・極性溶媒(水、アルコール)

用途
・セラミックスの焼成
・半導体ウェーハのアニール
・各種乾燥処理

・最高使用温度(注1) :1200℃
・常用使用温度(注1) :RT+30℃~1200℃
・最大ワークサイズ(mm):φ500×100H
・外形寸法(mm) :965W×1600H×890D
・試し焼き設備あり
(注1) 加熱室内制御点での値を示す

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営業品目

実験炉(ボックス炉,チューブ炉,雰囲気炉,真空炉),恒温槽(熱風循環式オーブン,
イナートガスオーブン,クリーンオーブン他),モルダサームヒータ,
工業用・半導体製造用・FPD製造用・電子部品用各種熱処理装置