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日立イオンミリング装置 IM4000II

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日立イオンミリング装置のスタンダードモデルであるIM4000IIは、断面ミリングと平面ミリング(フラットミリング®*)に対応しています。
冷却温度調整機能や雰囲気遮断ホルダユニットなど、各種オプションにより、さまざまな試料の断面試料作製が可能です。
◎特長
●高ミリングレート
IM4000IIは500 µm/h*1以上の断面ミリングレートを実現したイオンガンを搭載しています。 硬質材料の断面試料作製に有効です。
● ハイブリッドタイプのミリング装置
 断面ミリング*2、フラットミリング*3対応。

*1:加速電圧6 kV、マスクエッジからSiを100 µm突出させて1時間加工した際の最大深さ
*2 : 割断や機械研磨では困難な柔らかい材料や複合材料の断面作製。
*3 : 機械研磨試料の最終仕上げや試料表面の清浄化。
*フラットミリング®は、日本国内における株式会社日立ハイテクの登録商標です。

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営業品目

電子顕微鏡,電子顕微鏡周辺装置、走査プローブ顕微鏡、白色干渉顕微鏡、DNAシーケンサ